詳細情報 |
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このスタックの水流量範囲 (m3/h): | 0.5~0.7 | この堆積物の標準水流量 (m3/h): | 0.5 |
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モジュールの生成水 (MΩcm) の抵抗性: | >15 | モジュールのシリコンと塩基除去率 (%): | ≧99 |
このスタックの温度範囲 (°C): | 15-35 (トップ25) | 影響するpH: | 6.5-9 だった0 |
影響伝導性 (us/cm): | 1〜10 (最適<3) | 総二酸化炭素 (ppm): | 適正な状態で |
利点: | 完璧な構造設計,操作が簡単 | 適用する: | 高品質の消離水補給のために |
ハイライト: | 0.5-0.7m3/H EDIスタック,EDIスタック LX-HD-50,高温消毒EDIスタック |
製品の説明
0.5-0.7m3/H 中国EDIスタックLX-HD-50 高温消毒用
伝統的なイオン交換方法 (DI) と比較すると,EDIには以下の特徴があります.
(1) 安定した水質の超純水を継続的に生産できます.
(2) 酸やアルカリ再生を必要とせず,酸やアルカリの消費を節約し,それに対応する貯蔵と再生設備を必要としません.
(3) 危険化学物質による操作者への害を回避する.
(4) 再生された廃水 を 生み出す こと が できず,処理 過程 が 清潔 で,廃水 処理 施設 が 必要 で ない.
(5) 構造がコンパクトで,面積が小さい.
(6) 操作が簡単で労働が少ない.
EDIモジュールは,淡水室に詰め込まれた混合したイオン交換樹脂を使用して,供給水中のアニオンとカチオンを吸収します.同時に,これらの吸収されたイオンは DC電圧の作用下で横向的な電流移転を経験します濃縮された水室に入り,取り除かれます.一方,供給水の移動方向では,イオンが絶えず除去されるので液体の伝導性はますます低下する.直流電圧の作用下では,水は分離し,システムの電流を維持するために十分なH+とOH-イオンを生成する.横向の電流移転を伴うだけでなく水の解離によって生成されるH+とOHTは,その場でイオンで吸収された樹脂も再生し,それによって継続的な深層脱塩を実現します.
- 中央の隔壁の完全な詰め込み技術を使用して,水の質は良いです
- 塩や濃縮水の循環を追加する必要はありません,操作が簡単です
- 優れた電気性能,高電流効率,低電圧,低エネルギー消費
- パイプラインは,横並んで配置され,2つの入口と2つの出口標準スレッドインターフェース,簡単にインストール
- 完全な構造設計で 漏れをゼロにする
- 浄水
- WFI (注射用水) のスタイラーへの供給
- 発電中の流量生成/ボイラー供給
- マイクロエレクトロニクス/半導体製造
- 高品質の化粧水のために
- バイオメディカルおよび実験用として,製薬化合物による蒸留のための予備処理
- 表面加工
- 化学品製造
- 食品及び飲料産業
-電気,化学,金属産業のためのボイラー給水
-エレクトロニクス,半導体,精密機械のための超純水
-化学処理用水
-薬用水
-超純粋な実験用水
水出力 | LX-HD-50 | LX- 高画質-100 | LX- 高画質-200ドル | LX- 高画質-300ドル | LX- 高画質-500ドル |
水流域 (m3/h) | 0.5-0 だった7 | 0.7-12 | 1.5-25 | 2.0-3 わかった5 | 3.5-5 わかった5 |
標準水流量 (m3/h) | 0.5 | 1.0 | 2.0 | 3.0 | 5.0 |
生産された水の抵抗性 (MO·cm) | >15 | >15 | >15 | >15 | >15 |
シリコンとボールの除去率 (%) | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 |
水入口の要求事項 | LX- 高画質-50 | LX- 高画質-100 | LX-HDは200 | LX- 高画質-300ドル | LX-HD -500 |
温度範囲 (°C) | 15-35 (トップ25) | 15-35 (トップ25) | 15-35 (トップ25) | 15-35 (トップ25) | 15-35 (トップ25) |
影響するpH | 6.5-9 だった0 | 6.5-9 だった0 | 6.5-9 だった0 | 6.5-9 だった0 | 6.5-9 だった0 |
影響伝導性 (us/cm) | 1〜10 (最適<3) | 1〜10 (最適<3) | 1〜10 (最適<3) | 1〜10 (最適<3) | 1〜10 (最適<3) |
総二酸化炭素 (ppm) | 適正な状態で | 適正な状態で | 適正な状態で | 適正な状態で | 適正な状態で |
総硬さ (ppm) | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 |
シリコン · 活性シリコン (ppm) | ≤0.5 (最適≤0.2) | ≤0.5 (最適≤0.2) | ≤0.5 (最適≤0.2) | ≤0.5 (最適≤0.2) | ≤0.5 (最適≤0.2) |
全有機炭素 (ppm) | ≤0.5 | E0で5 | E0で5 | E0で5 | E0で5 |
残り酸素 (ppm) | ≤0.01 | ≤0.01 | 60.01 | ≤0.01 | 60.01 |
イオン金属 (Fe/Mn.ppm) | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
ぼんやり (NTU) | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 |
油脂 | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない |
影響性穀物 (m) | ≤1.0 (最適)∈0.5) | ≤1.0 (最適な≤0.5) | ≤1.0 (最適な≤0.5) | ≤1.0 (最適な≤0.5) | ≤1.0 (最適な≤0.5) |
オキシダント | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない | 検出されていない |
申請のケースについては,以下をクリックしてください.https://www.fgwater.com/Industries/
わたしたち に つい て
FGウォーター・テクノロジーズ (www.fgwater.com) は,水処理装置の設計,製造,製造を統合するハイテク企業である Wuxi Fenigal Science and Technology Co. Ltd.の有機的な部分です.主要な産業部門の貿易と輸送.
HAFE-FG Water Technologiesは,水処理技術の研究,設備開発と製造,テスト,国際輸送などに焦点を当てています.我々は,多くの主要な大規模または中小規模の原始機器メーカーと働いています 中国高技術開発ゾーン研究開発,製造,品質試験に専念しました
主な製品には,海水逆 osmose (SWRO) システム,塩水逆 osmose (BWRO) など,様々な水浄化と異なる処理機器が含まれます.超濾過 (UF) システム電子イオン化/EDI機器,メディア圧力フィルター,イオン交換器の軟化剤. 今のところ,私たちの会社は,食品と飲料産業のための主要な水処理機器のサプライヤーになりました.医薬品産業化学産業,電力産業,都市水道産業,市政および産業廃棄物処理など,アジアの20以上の国や地域への輸出業者ヨーロッパ,アメリカ,アフリカなど
私たちの顧客
生産システム
生産システムは,中国全土にわたる 専門産業のパートナー工場のリストで構成されています.工房と倉庫の1万平方メートル水処理システムの設計に 10年以上経験がある水の浄化や下水処理のあらゆるアプリケーションに最適なソリューションを提供することができます.
設立以来,同社は常に品質を事業の命として考えています.私たちは様々な水処理システムの生産のために最高のコンポーネントのみを選択しています.私たちのシステムは使いやすくて メンテナンスも簡単です最悪の条件でも 非常に信頼性があります